ASML新一代EUV光刻機飆升至27億元

為克服技術挑戰，ASML正與全球最大的微電子研發機構IMEC共同建立測試實驗室。據悉，ASML原型機將在2023年上半年完成。

ASML對外表示，2021年第四季度已收到5個預定High-NA EUV的訂單。

荷蘭的ASML公司是全球光刻機領域的翹楚，也是全球唯一一家極紫外光微影技術光刻機的公司。ASML推進的High-NA 曝光技術正是延續摩爾定律的關鍵所在。

晶片先進工藝實現的關鍵在於製造晶圓的半導體裝置，光刻機是半導體裝置中技術難度最高、成本最大的裝置。當前半導體的工藝製程已經推進到3奈米，臺積電正在向1奈米衝擊。而要實現這些先進工藝，則離不開高階的光刻機。

在全球代工領域，臺積電、 三星 是全球唯二的兩家在先進工藝製程較量的半導體制造巨頭，ASML高階光刻機也是雙方今後一比高下的武器。不難判斷，臺積電、三星是ASML該高階光刻機的首批客戶。